System for continuously using resist stripper liquid based on nanofiltration

WO2009004988 Art A1 8. Januar 2009

Anmelder: Toagosei Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009004988
Aktenzeichen: EP08777656
Anmeldetag: 27. Juni 2008
Veröffentlichung: 8. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B01D61/14B01D71/02G03F7/42H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toagosei Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 TOAGOSEI CO., LTD.

Toagosei ist ein japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, bekannt für Klebstoffe wie Aron Alpha. Die Patente betreffen Polymere, Klebstoffe und Spezialchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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