Pattern transferring by direct current plasma based ion implantation and deposition

WO2009006679 Art A1 15. Januar 2009

Anmelder: THE UNIVERSITY OF SYDNEY 🇦🇺

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009006679
Aktenzeichen: EP08772622
Anmeldetag: 7. Juli 2008
Veröffentlichung: 15. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/48H01L21/266

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE UNIVERSITY OF SYDNEY
Land: 🇦🇺 Australien

🇦🇺 The University of Sydney

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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