Method of measuring a deviation of an actual shape from a target shape of an optical surface
WO2009006914
Art A1
15. Januar 2009
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009006914
- Aktenzeichen
- EP07765114
- Anmeldetag
- 6. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 15. Januar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B9/021G01B11/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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