Positive-working resist composition and method for pattern formation using the positive-working resist composition

WO2009011289 Art A1 22. Januar 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009011289
Aktenzeichen: EP08791072
Anmeldetag: 10. Juli 2008
Veröffentlichung: 22. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F2/38C08F20/10H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von