Si layer aggregation suppression method, semiconductor device manufacturing method, and vacuum processing device

WO2009011303 Art A1 22. Januar 2009

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009011303
Aktenzeichen: EP08778084
Anmeldetag: 11. Juli 2008
Veröffentlichung: 22. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/322H01L21/205H01L27/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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