Debris prevention system, radiation system, and lithographic apparatus

WO2009011579 Art A1 22. Januar 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009011579
Aktenzeichen: EP08779028
Anmeldetag: 16. Juli 2008
Veröffentlichung: 22. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/00H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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