Composition for cleaning and rust prevention and process for producing semiconductor element or display element

WO2009013987 Art A1 29. Januar 2009

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009013987
Aktenzeichen: EP08790853
Anmeldetag: 3. Juli 2008
Veröffentlichung: 29. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/32C11D7/34C23G1/04H01L21/3205H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

2.580 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von