Substrate temperature measuring apparatus and substrate temperature measuring method

WO2009014111 Art A1 29. Januar 2009

Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009014111
Aktenzeichen: EP08791398
Anmeldetag: 22. Juli 2008
Veröffentlichung: 29. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01J5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Rohm Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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