Mems sensor, and mems sensor manufacturing method
WO2009014118
Art A1
29. Januar 2009
Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009014118
- Aktenzeichen
- EP08791415
- Anmeldetag
- 22. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 29. Januar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H04R19/04B81B3/00B81B7/02B81C1/00H01L29/84H04R31/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
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Vertreten von
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