Intensity modulated electron beam and application to electron beam blanker
WO2009015154
Art A1
29. Januar 2009
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009015154
- Aktenzeichen
- EP08782212
- Anmeldetag
- 22. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 29. Januar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G21K5/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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