Method for depositing a semiconducting layer from a liquid

WO2009016107 Art A1 5. Februar 2009

Anmelder: BASF SE, Basf Se 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009016107
Aktenzeichen: EP08786428
Anmeldetag: 25. Juli 2008
Veröffentlichung: 5. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/05

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: BASF SE
Basf Se
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 BASF

Deutscher Chemiekonzern mit Sitz in Ludwigshafen, gegründet 1865. Entwickelt und produziert Chemikalien, Kunststoffe, Agrarprodukte und Materialien für zahlreiche Industriezweige.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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