High-strength columnar crystal silicon and plasma etching device part formed by the high-strength columnar crystal silicon

WO2009017221 Art A1 5. Februar 2009

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009017221
Aktenzeichen: EP08792076
Anmeldetag: 1. August 2008
Veröffentlichung: 5. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C01B33/02C30B29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von