Method of forming pattern and, for use therein, radiation-sensitive resin composition and resin having radiation-sensitive acid generating group

WO2009019793 Art A1 12. Februar 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009019793
Aktenzeichen: EP07792312
Anmeldetag: 9. August 2007
Veröffentlichung: 12. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F12/04C08F20/38C08F20/58G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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