Substrate processing method, substrate processing apparatus, program, recording medium and substituting agent

WO2009019987 Art A1 12. Februar 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009019987
Aktenzeichen: EP08791515
Anmeldetag: 24. Juli 2008
Veröffentlichung: 12. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B08B3/04G02F1/13G02F1/1333

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von