Semiconductor element and method for production of semiconductor element

WO2009020183 Art A1 12. Februar 2009

Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009020183
Aktenzeichen: EP08827065
Anmeldetag: 7. August 2008
Veröffentlichung: 12. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L33/00C01G9/00C23C14/08H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Rohm Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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