Strontium and barium precursors for use in chemical vapor deposition, atomic layer deposition and rapid vapor deposition

WO2009020888 Art A1 12. Februar 2009

Anmelder: Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009020888
Aktenzeichen: EP08797080
Anmeldetag: 3. August 2008
Veröffentlichung: 12. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00C07F3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Advanced Technology Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Advanced Technology Materials

Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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