Optical inspection apparatus, pinhole inspection apparatus, film thickness inspection apparatus, and surface inspection apparatus
WO2009022538
Art A1
19. Februar 2009
Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009022538
- Aktenzeichen
- EP08791809
- Anmeldetag
- 29. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/894G01B11/06G01J1/42G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hamamatsu Photonics K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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