Compound and radiation-sensitive composition

WO2009022540 Art A1 19. Februar 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009022540
Aktenzeichen: EP08791884
Anmeldetag: 30. Juli 2008
Veröffentlichung: 19. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C07C69/736C07C69/96G03F7/004G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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