Porous silica precursor composition and method for preparing the same, porous silica film and method for forming the same, semiconductor device, image display device, and liquid crystal display device
WO2009022583
Art A1
19. Februar 2009
Anmelder: Ulvac, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009022583
- Aktenzeichen
- EP08827523
- Anmeldetag
- 5. August 2008
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/12C09D1/00G02F1/1337H01L21/316H01L21/768H01L23/522
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Ulvac, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
ULVAC
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.
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