Chemical mechanical polishing pad structure minimizing trapped air and polishing fluid intrusion

WO2009023400 Art A1 19. Februar 2009

Anmelder: PPG Industries Ohio, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009023400
Aktenzeichen: EP08796223
Anmeldetag: 17. Juli 2008
Veröffentlichung: 19. Februar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/04B24D13/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: PPG Industries Ohio, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 PPG Industries

US-amerikanischer Hersteller von Farben, Lacken und Spezialchemikalien mit Sitz in Pittsburgh, Pennsylvania, einer der weltweit größten Beschichtungshersteller.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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