Horizontal high driving performance semiconductor device using trench structure
WO2009025308
Art A1
26. Februar 2009
Anmelder: Seiko Instruments Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009025308
- Aktenzeichen
- EP08792573
- Anmeldetag
- 20. August 2008
- Veröffentlichung
- 26. Februar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/78H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Seiko Instruments Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Seiko Instruments
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiba, tätig in den Bereichen Präzisionsinstrumente, Uhren und elektronische Bauteile.
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