Radiation-sensitive composition and compound
WO2009025335
Art A1
26. Februar 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009025335
- Aktenzeichen
- EP08827737
- Anmeldetag
- 21. August 2008
- Veröffentlichung
- 26. Februar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C69/96C07C39/17C07C69/734G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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