Module and method for producing extreme ultraviolet radiation
WO2009025557
Art A1
26. Februar 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009025557
- Aktenzeichen
- EP08793859
- Anmeldetag
- 25. August 2008
- Veröffentlichung
- 26. Februar 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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