Method and apparatus for thermal treatment of semiconductor workpieces

WO2009026765 Art A1 5. März 2009

Anmelder: ACM Research (Shanghai), Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009026765
Aktenzeichen: EP07801010
Anmeldetag: 29. August 2007
Veröffentlichung: 5. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/324F27D9/00C30B31/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ACM Research (Shanghai), Inc.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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