Method for producing metal oxide semiconductor and thin film transistor using oxide semiconductor thin film produced by the method

WO2009028452 Art A1 5. März 2009

Anmelder: Konica Minolta Holdings, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009028452
Aktenzeichen
EP08792706
Anmeldetag
25. August 2008
Veröffentlichung
5. März 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01L29/786H01L21/336
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Konica Minolta Holdings, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Konica Minolta

Japanisches Technologieunternehmen, das Bürodrucksysteme, Multifunktionsgeräte, optische Geräte sowie Mess- und Sensortechnik herstellt.

8.773 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen