Plasma processing apparatus, plasma processing method and end point detecting method

WO2009028506 Art A1 5. März 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009028506
Aktenzeichen: EP08828439
Anmeldetag: 26. August 2008
Veröffentlichung: 5. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31H01L21/3065H01L21/316H01L21/318

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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