Shadow edge lithography for nanoscale patterning and manufacturing
WO2009029302
Art A2
5. März 2009
Anmelder: University of Washington 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009029302
- Aktenzeichen
- EP08828310
- Anmeldetag
- 8. Mai 2008
- Veröffentlichung
- 5. März 2009
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- University of Washington
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
University of Washington
Öffentliche Forschungsuniversität in Seattle, USA, mit umfangreicher Forschung in Medizin, Ingenieurwissenschaften und Informatik. Die Universität wurde 1861 gegründet.
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