Resolution enhancement techniques combining four beam interference-assisted lithography with other photolithography techniques

WO2009029826 Art A1 5. März 2009

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009029826
Aktenzeichen: EP08828313
Anmeldetag: 29. August 2008
Veröffentlichung: 5. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/22G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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