Ferromagnetic Tunnel Junction Element Having (fe, Co, Ni)sib Free Layer
WO2009031387
Art A1
12. März 2009
Anmelder: FUJI ELECTRIC HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009031387
- Aktenzeichen
- EP08792388
- Anmeldetag
- 12. August 2008
- Veröffentlichung
- 12. März 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L43/08H01F10/16H01F10/32H01L21/8246H01L27/105H01L29/82
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJI ELECTRIC HOLDINGS CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Electric
Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.
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