Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method for preparing the same, kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

WO2009031389 Art A1 12. März 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009031389
Aktenzeichen
EP08792398
Anmeldetag
12. August 2008
Veröffentlichung
12. März 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen