Manufacturing method of semiconductor laser element

WO2009031534 Art A1 12. März 2009

Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009031534
Aktenzeichen
EP08829760
Anmeldetag
2. September 2008
Veröffentlichung
12. März 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01S5/02B23K26/38B23K26/40H01L21/301B23K101/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hamamatsu Photonics K.K.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

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