Sputtering target for forming zro<sb>2</sb>-in<sb>2</sb>o<sb>3</sb>optical recording medium protective film
WO2009031670
Art A1
12. März 2009
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009031670
- Aktenzeichen
- EP08828912
- Anmeldetag
- 5. September 2008
- Veröffentlichung
- 12. März 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/48G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
1.978 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.