Substrate processing apparatus, method for suppressing contamination of substrate processing apparatus, and storage medium

WO2009034822 Art A1 19. März 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009034822
Aktenzeichen: EP08830504
Anmeldetag: 22. August 2008
Veröffentlichung: 19. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677C23C14/56C23C16/44H01L21/02H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von