Photosensitive composition and method for pattern formation using the photosensitive composition

WO2009035044 Art A1 19. März 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009035044
Aktenzeichen: EP08831032
Anmeldetag: 11. September 2008
Veröffentlichung: 19. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/14H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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