Cleaning method and substrate processing apparatus

WO2009037991 Art A1 26. März 2009

Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009037991
Aktenzeichen: EP08831342
Anmeldetag: 9. September 2008
Veröffentlichung: 26. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/44H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Kokusai Electric Inc.
Kanto Denka Kogyo Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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