Resist Underlayer Film Forming Composition Containing Branched Polyhydroxystyrene

WO2009038126 Art A1 26. März 2009

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009038126
Aktenzeichen: EP08832374
Anmeldetag: 18. September 2008
Veröffentlichung: 26. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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