Lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2009038460 Art A1 26. März 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009038460
Aktenzeichen: EP08831309
Anmeldetag: 17. September 2008
Veröffentlichung: 26. März 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00G21K1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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