Composition for forming upper layer film for immersion exposure, upper layer film for immersion exposure, and method of forming photoresist pattern

WO2009041270 Art A1 2. April 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009041270
Aktenzeichen: EP08832923
Anmeldetag: 10. September 2008
Veröffentlichung: 2. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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