Method for controlling film forming apparatus, film forming method, film forming apparatus, organic el electronic device and storage medium having program for controlling film forming apparatus stored therein

WO2009041344 Art A1 2. April 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009041344
Aktenzeichen: EP08834189
Anmeldetag: 18. September 2008
Veröffentlichung: 2. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/22C23C14/34H01L51/50H05B33/10H05B33/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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