Mask blank, and method for production of imprint mold

WO2009041551 Art A1 2. April 2009

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009041551
Aktenzeichen: EP08833559
Anmeldetag: 26. September 2008
Veröffentlichung: 2. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08B29C59/02B81C5/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von