Method for manufacturing semiconductor device, method for manufacturing exposure mask, and program used for manufacture of the same

WO2009044434 Art A1 9. April 2009

Anmelder: Fujitsu Microelectronics Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009044434
Aktenzeichen: EP07827870
Anmeldetag: 5. Oktober 2007
Veröffentlichung: 9. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/08G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Microelectronics Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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