Parasitic particle suppression in the growth of iii-v nitride films using mocvd and hvpe

WO2009045217 Art A1 9. April 2009

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009045217
Aktenzeichen: EP07843850
Anmeldetag: 4. Oktober 2007
Veröffentlichung: 9. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302H01L21/306H01L21/461

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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