Method for manufacturing a semiconductor device and semiconductor device obtainable with such a method

WO2009047588 Art A1 16. April 2009

Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc., ST Microelectronics Crolles 2 SAS 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009047588
Aktenzeichen: EP07859563
Anmeldetag: 9. Oktober 2007
Veröffentlichung: 16. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Freescale Semiconductor, Inc.
ST Microelectronics Crolles 2 SAS
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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