Processing-liquid supply mechanism and processing-liquid supply method
WO2009047974
Art A1
16. April 2009
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009047974
- Aktenzeichen
- EP08838114
- Anmeldetag
- 22. September 2008
- Veröffentlichung
- 16. April 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01J4/00G01F23/00H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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