Method of selectively etching semiconductor region, separation method of semiconductor layer and separation method of semiconductor device from substrate

WO2009048265 Art A1 16. April 2009

Anmelder: Industry Foundation of Chonnam National University 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009048265
Aktenzeichen: EP08836957
Anmeldetag: 9. Oktober 2008
Veröffentlichung: 16. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3063

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Industry Foundation of Chonnam National University
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Industry Foundation of Chonnam National University

Die Industry Foundation of Chonnam National University ist die Technologietransfer-Einrichtung der Chonnam National University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma- und Biotechnologie, mit weiteren Schwerpunkten in Nahrungsmitteltechnik und organischer Chemie. Anmeldungen reichen von 2005 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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