High-resolution lithography mask, apparatus and process for manufacture thereof, and lithography apparatus and process using such a mask

WO2009050141 Art A1 23. April 2009

Anmelder: Commissariat à l'Energie Atomique 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009050141
Aktenzeichen: EP08805250
Anmeldetag: 13. Oktober 2008
Veröffentlichung: 23. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G03F7/20G03F7/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Commissariat à l'Energie Atomique
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives

Die Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives (CEA) ist eine französische staatliche Forschungseinrichtung mit Schwerpunkt Kernenergie, alternative Energien und Grundlagenforschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Software, Energietechnik und Werkstoffkunde. Anmeldungen sind seit 2000 durchgehend belegt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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