Sulfone compound, sulfonic acid salt, and radiation-sensitive resin composition

WO2009051088 Art A1 23. April 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009051088
Aktenzeichen: EP08838615
Anmeldetag: 14. Oktober 2008
Veröffentlichung: 23. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/19C07C381/12C07D333/46G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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