Toroidal plasma chamber for high gas flow rate process

WO2009051597 Art A1 23. April 2009

Anmelder: MKS Instruments, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009051597
Aktenzeichen: EP07854198
Anmeldetag: 19. Oktober 2007
Veröffentlichung: 23. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MKS Instruments, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 MKS Instruments

MKS Instruments ist ein US-amerikanischer Hersteller von Prozesssteuerungs- und Messinstrumenten für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Massachusetts. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt um Steuerungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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