Imaging optical system and projection exposure apparatus for microlithography comprising an imaging optical system of this type

WO2009053023 Art A2 30. April 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009053023
Aktenzeichen: EP08842819
Anmeldetag: 21. Oktober 2008
Veröffentlichung: 30. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/06G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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