Selective silicide formation using resist etch back

WO2009055384 Art A1 30. April 2009

Anmelder: Spansion LLC, Min, Kyunghoon, Hui, Angela, Kinoshita, Hiroyuki, Cheng, Ning, Chang, Mark 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009055384
Aktenzeichen: EP08842596
Anmeldetag: 21. Oktober 2008
Veröffentlichung: 30. April 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8239H01L21/8246H01L27/105H01L27/115H01L21/336H01L21/311H01L21/8247H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Spansion LLC
Min, Kyunghoon
Hui, Angela
Kinoshita, Hiroyuki
Cheng, Ning
Chang, Mark
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Spansion

Spansion war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller, der auf Flash-Speicher spezialisiert war und später in Cypress Semiconductor aufging. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeichertechnik, ergänzt um Software. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2014.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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